有实力的小型双面抛光机厂家，方达研磨如何

在当今的工业领域，小型双面抛光机的需求日益增长。无论是半导体行业、光学领域还是其他精密制造行业，都对小型双面抛光机有着严格的要求。那么，在众多的小型双面抛光机厂家中，深圳市方达研磨技术有限公司究竟如何呢？

深圳市方达研磨技术有限公司创建于 2007 年 3 月 10 日，位于光明新区方达工业园，公司厂房面积约 13000 平米。它是国内从事平面研磨抛光设备生产、销售、技术开发的企业，在行业内有着丰富的经验和深厚的技术积累。

从成长优化的角度来看，方达研磨的发展历程是一部不断创新和进步的历史。其创始人从 2003 年开始研究 KEMET 平面研磨和抛光技术，小批量自主生产了 380、460 等小型单面研磨抛光机。2005 年，研发出适用范围更广的 610、910 单面研磨抛光机。2006 年，成为国内研发出研磨液、抛光液、研磨盘的厂家，液体 12 种，盘 5 种，适用于各种材料的研磨和抛光。2007 年，成立方达研磨这个品牌，同时方达款带修面的双面研磨设备投入生产。2009 年，进行研磨技术更新，研发出针对 12 寸硅片的减薄机和 CMP 抛光机，是国内家研发和生产半导体晶圆减薄机和化学机械抛光机的厂家。2012 年，研发了 LED 蓝宝石减薄机、9104XA 铜抛机和 9104PA 软抛机。2014 年，研发出针对蓝宝石专用的研磨盘、抛光垫、研磨液和抛光液。2018 年，组*内台全自动晶圆研磨机，用于 4/6/8/12 英寸硅片的自动化生产，该设备于 2020 年正式投产，可替代 disco8540 和 8560，打破国际垄断。2020 年开始研发碳化硅全自动减薄工艺，气浮主轴，双头减薄机等适用于*三代半导体的晶圆研磨设备，并于 2021 年成功问世和批量投产。2021 年生产了台国内集粗磨+精磨+抛光于一体的全自动晶圆磨抛机，可替代 DISCO8761。

在行业问答方面，很多人关心小型双面抛光机的平面度和粗糙度能否达到高精度要求。深圳市方达研磨技术有限公司的平面研磨机、双面研磨机、抛光机等设备优势明显，平面度可以做到 0.1um，粗糙度可达 0.2nm。这对于一些对精度要求较高的行业来说，是非常关键的。

还有人会问，在面对不同尺寸的晶圆或材料时，深圳市方达研磨技术有限公司的小型双面抛光机能否满足需求。方达研磨的晶圆减薄机可以做 12 寸以及更大晶圆的减薄，还可以做**薄晶圆的加工，8 寸可以做到 5um，并且可以非标定制化，能够满足客户多样化的需求。

深圳市方达研磨技术有限公司在技术研发方面不断投入，拥有多项专利技术。目前有多项产品填补了国内研磨抛光行业的空白，已达国际先进水平。公司从 2013 年起就成为国家高新技术企业、深圳市高新技术企业，2023 年获专精特新中小企业、创新型中小企业，38 项专利，其中全自动晶圆减薄机为发明专利。

其客户群遍及国内外，涵盖了众多**企业。在半导体行业，有做蓝宝石晶圆的华灿、聚灿、乾照、厦门思坦；做硅片的中环半导体、金瑞泓、苏纳光电、隆基、晶科、有研；做碳化硅的天岳、三安、晶越、天科合达、天域；做封装的通富微电、晶方科技等。此外，还有华为、先导集团、大庆溢泰、钛昇、京东方等非半导体行业客户，如四川成飞、贵州黎阳、沈阳黎明等。

在小型双面抛光机领域，深圳市方达研磨技术有限公司凭借其悠久的发展历史、强大的技术实力、广泛的客户群体以及良好的市场口碑，展现出了**的竞争力。无论是从设备的性能、精度，还是从技术研发、客户服务等方面来看，方达研磨都有着出色的表现。如果您正在寻找一家有实力的小型双面抛光机厂家，深圳市方达研磨技术有限公司是一个值得考虑的选择。